摘要

日本通过对中国高端光刻胶实施“逐案审批”等柔性管制手段，实质上导致ArF浸润式及EUV光刻胶对华供应陷入停滞，对中国14nm及以下先进制程的产能扩充构成制约。中国则以关键金属管制、稀土物项管制、两用物项对日原则禁令及实体列单等方式逐步升级反制。在此背景下，企业面临日益复杂的两用物项合规要求，日本“逐案审批”制度下审批周期延长至3-6个月且存在不获批风险，中国对日出口管制已确立域外适用效力，违规转移或提供相关物项将依法被追究法律责任。从发展趋势来看，双方围绕半导体关键材料的博弈正从短期供应冲击向长期科技竞争演变，并深刻影响全球半导体供应链的区域布局。

关键词：高端光刻胶、出口管制、反制措施

引言

2023年以来，日本以修改《出口贸易管理令》及“逐案审批”等柔性管制手段，收紧对华高端光刻胶出口。受此影响，ArF浸润式及EUV光刻胶的对华供应实际上已陷于停滞。这一管制措施直接作用于中国半导体产业链中最薄弱的材料环节，对14nm及以下先进制程的产能扩充与工艺研发形成压力。

与此同时，中国以镓、锗出口管制为起点，逐步扩大至稀土物项列管、两用物项对日原则禁令及实体列单，构建起涵盖关键原材料、两用物项与技术出口的多层次反制体系。2026年1月6日商务部1号公告进一步确立了对日出口管制的域外适用效力，出口经营者须自行判断最终用户和用途是否涉及日本军事相关范畴，违规风险显著提升。中日双方管制政策的持续升级，已将合规管理从企业的自愿性选择转变为不可回避的运营成本。

本文旨在系统梳理日本对华光刻胶出口管制的法律框架、政策演变与实际传导效应，以及中国反制措施的升级路径，并在此基础上分析双方在半导体材料领域的博弈特征与长期趋势，有针对性地给企业合规提示，降低合规风险。

一、日本出口管制措施

1. 核心法律依据

日本并未将所有光刻胶列为“全面管制物项”，而是通过“最终用户清单”制度实施逐案审批。对被列入清单的最终用户，日本出口商须向经济产业省申请“个别许可”，审批标准极为严格。

2. 出口管制各阶段

◈第一阶段：常规管理期（至2022年）

光刻胶未被单独列为对华敏感物项，出口基本遵循常规程序。日本出口商可申请“一般性批量许可”，审批周期通常为1至2个月。彼时日本企业（JSR、信越化学、东京应化、富士胶片）在全球高端光刻胶市场占有率约90%，中国是重要出口市场。

◈第二阶段：首次收紧（2022年至2023年）

受美国2022年10月7日对华先进半导体出口管制新规影响，日本经济产业省开始加强对对华半导体材料出口的最终用途审查。对华出口高端光刻胶须提交更详细的最终用户和用途说明，审批周期开始延长，部分对华高端光刻胶（如ArF浸润式）的出口审批从常规1-2个月延长至3-4个月。

◈第三阶段：正式修法，纳入管制（2023年7月23日正式生效）^[3]

日本经济产业省宣布修改《外汇令》及省令，将23类先进半导体制造设备追加为出口管制对象^[4]。日本经济产业省发布的省令解释文件在解释管制范围时，将光刻胶纳入“相关材料及零部件”的范畴加以讨论，并明确其适用对象为：“对应特定波长（193nm以下）且可实现特定分辨率（线宽小于14nm）的产品”，属于本次改正的适用对象。对中国（含香港、澳门）出口不再适用“一般性批量许可”，须逐项申请“个别许可”。该修正令于2023年7月23日正式生效。其中，受影响的仅为可用于14nm及以下制程的高端光刻胶，主要涉及EUV光刻胶和部分ArF浸润式光刻胶，成熟制程（28nm及以上）使用的KrF、g线/i线光刻胶基本不受影响。

◈第四阶段：事实上的“禁运”（2024年至2026年）

虽然法规上仍保留“逐案审批”通道，但实际操作中，日本对华高端光刻胶出口已趋于实质停滞。日本经济产业省对高端光刻胶对华出口的审批大幅拖延，周期从1至2个月延长至3至6个月甚至更久，部分申请被无限期搁置。审批要求出口商提交光刻胶详细成分比例、分解温度等商业机密信息，有些日本厂商因不愿泄露核心配方，主动放弃申请。据《日本经济新闻》报道，“日本政府对华尖端光刻胶出口审查趋于严格，实质上停止发放新许可证”。^[5]

进入2025年，日本对华半导体出口管制未出台类似2023年的大规模修法。据公开信息，日本在2025年4月宣布对光刻胶、高纯度硅等十余种半导体材料实施出口管制，^[6]2025年11月发布了外为法相关制度改正的概要文件，主要内容涉及喷雾干燥器规定修订、武器临时带出特例化、防务装备零部件出口合理化，以及技术管理事前报告制度新增4项技术（含光刻胶）。同月，经产省将ArF/EUV光刻胶纳入出口管制；逐案审批90天；对华配额削减20-30%，2025年12月管制加码至i线/KrF光刻胶；要求提交最终用途追溯报告。^[7]2025年底，日本修订《出口贸易管理令》，将高端光刻胶纳入管制，审批周期从30天延长至90天，并对约110家中国半导体企业重点核查。2026年6月，东京应化、JSR等四大日系光刻胶厂商统一宣布全面收紧对华供货，高端产品永久停单。

在实际操作层面，据行业分析，日本经济产业省通过“逐案审批”等柔性手段持续收紧对华出口。2023年修法前对华出口适用的“一般性批量许可”已被“个别许可”取代，审批周期延长。中国先进制程晶圆厂自2024年第二季度起已无法获得日本高端光刻胶的稳定新订单。

在政治经济层面，2022年底修订的《国家安全保障战略》将中国定位为“前所未有的最大战略挑战”。在此框架下，日本政府通过“逐案审批”在一定程度上平衡了国家安全诉求与企业商业利益。

由于四家日企掌控全球90%以上的高端光刻胶市场，在此背景下，中国2025年第一季度自日进口光刻胶约2200吨，2026年第一季度暴跌95%至111.3吨；高端的ArF、EUV光刻胶自2026年2月起已连续数月零报关。^[8]

3. 物项判定方法

一般而言，受管制的光刻胶主要为EUV光刻胶（7nm及以下）和ArF浸润式光刻胶（7–14nm），管制核心指标为“波长193nm以下、分辨率线宽小于14nm”。ArF干式光刻胶（28nm及以上）部分受影响，KrF光刻胶（≥65nm成熟制程）基本不受影响，g线/i线光刻胶（微米级制程）完全不受管制。

4. 出口许可审批要点

一般而言，受管制的光刻胶主要为EUV光刻胶（7nm及以下）和ArF浸润式光刻胶（7–14nm），管制核心指标为“波长193nm以下、分辨率线宽小于14nm”。ArF干式光刻胶（28nm及以上）部分受影响，KrF光刻胶（≥65nm成熟制程）基本不受影响，g线/i线光刻胶（微米级制程）完全不受管制。

5. 对中国半导体产业的实际影响

成熟制程（28nm及以上）供应基本稳定，KrF及以下等级光刻胶国产化率已超30%。先进制程（14nm及以下）供应实质性中断，ArF浸润式和EUV光刻胶仍高度依赖日本进口，自2024年第二季度起新订单无法获批，存量库存仅用于维护现有产线。

二、中国反制措施

1. 概述

中国反制措施可分为五个阶段：第一阶段：关键金属管制启动期（2023年—2024年），以镓、锗出口管制为核心，切断日本关键原料供应渠道。第二阶段：稀土管制加码期（2025年—2026年1月），对7类中重稀土及相关物项、技术实施出口管制，并公布2026年度管制目录。第三阶段：对日原则禁令（2026年1月6日），以1号公告确立对日原则禁令（三个“禁止”），首次写入域外适用条款。第四阶段：首次列单（2026年2月24日），将20家日本实体列入管控名单、20家列入关注名单。第五阶段：二次列单升级（2026年6月29日），新增20家管控名单、20家关注名单，审查更加严格，明确涉军事用途“不予批准”。

2. 核心法律依据

3. 反制措施各阶段

◈第一阶段：关键金属管制启动期（2023年-2024年）

◈第二阶段：稀土管制加码期（2025年-2026年1月）

◈第三阶段：对日原则禁令（2026年1月）

2026年1月6日，商务部发布2026年第1号公告《关于加强两用物项对日本出口管制的公告》，加强对日两用物项出口管制。

该公告核心内容可概括为三个“禁止”：禁止所有两用物项对日本军事用户出口；禁止对日本军事用途出口；禁止对一切有助于提升日本军事实力的其他最终用户用途出口。

任何国家和地区的组织和个人违规转移或提供相关物项将被依法追究责任。

◈第四阶段：首次列单（2026年2月24日）

◈第五阶段：二次列单升级（2026年6月29日）

三、中日出口管制博弈的影响

日本对华光刻胶出口管制的不断升级，是中日关系整体变化在半导体产业层面的具体投射。2022年底，日本修订《国家安全保障战略》，将中国定位为“前所未有的最大战略挑战”，出口管制被赋予显性的地缘政治工具属性。中国商务部则在2026年6月29日的答记者问中指出，日方“加速推动‘新型军国主义’步伐”“加紧推动‘再军事化’”。

在政治对立加剧的同时，中日经济相互依存的基本面并未根本改变。日本半导体材料对华出口占据重要份额，而中国在镓、锗、重稀土等关键原材料领域对日本供应链具有重要供给地位。这种结构性现实使日本在推进管制时面临国内产业界的利益博弈，“逐案审批”正是这一权衡的产物。

日本管制措施主要针对14nm及以下制程的ArF浸润式和EUV光刻胶，直接冲击中国先进制程的产能扩充。光刻胶保质期通常为3至6个月，囤货难度大，断供影响更为直接。28nm及以上成熟制程所需的KrF及以下等级光刻胶，实际影响相对有限。据《日本经济新闻》报道，自2024年春季起，审查周期从1至2个月延长至3至6个月，实质上停止发放新许可证。日本厂商因需提交商业机密信息，部分企业已放弃申请。

中国的反制措施从2023年8月对镓、锗的出口管制起步，此后逐步扩大至稀土物项列管、两用物项对日原则禁令及实体列单。在国产替代方面，南大光电ArF光刻胶已通过国内主流晶圆厂验证并批量供货；八亿时空KrF光刻胶树脂已投产，正在推进客户验证；上海新阳ArF光刻胶处于客户认证阶段，KrF光刻胶已形成稳定销售；晶瑞电材KrF光刻胶已批量供应，ArF光刻胶处于研发及客户验证阶段。

日本光刻胶产业链在部分关键原材料上对从中国进口的稀土、特种金属及树脂中间体存在一定依赖，这使得出口管制在影响中国先进制程的同时，也对日本企业供应链稳定性和成本形成压力，呈现“双刃剑”效应。从长期看，全球半导体供应链正从效率优先向安全优先重构。

四、企业合规提示

（一）日本出口商

1. 最终用户与用途审查

日本出口商须严格核查最终用户是否为中国军工相关实体，最终用途是否限于民用。若涉及14nm及以下制程的ArF浸润式或EUV光刻胶，须逐项向日本经济产业省申请“个别许可”，审批周期预计为3至6个月，且存在不获批风险。建议在正式签约前即启动最终用户尽职调查，避免因审批不通过导致合同无法履行。

2. 商业信息披露义务

日本经济产业省审批可能要求提交光刻胶详细成分比例、分解温度等核心商业信息。企业应评估信息披露与商业机密保护之间的平衡，提前做好内部合规审查。对于确属核心配方不宜披露的信息，应提前咨询法律顾问，评估是否可以提供替代性说明或申请保密处理。

3. 订单管理与合同条款设计

已获批的存量订单交付周期可能被拉长，企业应在合同中设置出口管制合规条款，明确约定因出口审批延迟或不予批准导致的交付延迟或合同解除不构成违约，避免因政策变化承担违约赔偿责任。

4. 关注政策动态

日本政府持续评估出口管制政策，企业应密切关注日本经济产业省官网公告及省令修订动态，及时调整对华出口策略。建议指定专人负责跟踪政策变化，确保第一时间掌握管制清单和审批要求的最新调整。

（二）中国进口商

1. 核查供应商合规状态

确认日本供应商是否已获得日本经济产业省“个别许可”，许可是否覆盖所涉物项的技术参数和最终用途。建议要求供应商提供许可文件副本或相关证明，并存档备查。

2. 最终用途声明

自日本进口光刻胶的企业应如实向中国海关和商务主管部门申报最终用户和最终用途，确保进口物项不涉及军事用途。申报内容应与实际业务一致，并妥善保管相关证明文件以备核查。如最终用途发生变更，须及时向原发证机关报告并重新办理相关手续。

3. 供应链多元化

鉴于日本高端光刻胶对华供应实质性中断，建议加快国产光刻胶验证进度，建立多元化供应渠道，降低单一来源依赖风险。可同时拓展韩国、欧洲等第三方供应商作为过渡方案。

4. 存量库存管理

光刻胶保质期通常为3至6个月，企业应科学规划库存周转，避免囤货导致的过期损失。建议建立库存预警机制，根据生产计划和供应周期合理确定安全库存水平。

5. 建立内部合规制度

企业应建立对光刻胶等物项全流程合规审查机制，完善进出口、存储、生产耗用等台账记录。合规制度应涵盖交易前尽职调查、交易中单证审核、交易后记录保存三个环节，形成闭环管理。如遇主管部门现场核查，应依法予以配合。

结语

日本对华高端光刻胶出口管制，是中日关系持续变化在半导体关键材料领域的具体体现。通过“逐案审批”等柔性手段，日本实质上切断了对华ArF浸润式及EUV光刻胶的稳定供应，对中国14nm及以下先进制程的产能扩张构成制约。中国则以镓、锗管制为起点，逐步升级至稀土物项列管、两用物项对日原则禁令及实体列单，构建起多层次的反制体系。

在此背景下，企业须高度重视合规管理，密切关注中日双方管制政策的动态调整，避免因违规操作承担法律责任。

从更长的周期看，这场围绕半导体关键材料的博弈，本质上是中日两国在技术主权与产业链安全之间寻求新平衡点的过程。日本凭借其材料领域的技术积累试图维持既有优势，中国则依托庞大的内需市场与持续增加的研发投入推进国产替代。短期内，双方在核心利益上的分歧难以弥合，管制措施将持续产生影响；中长期而言，全球半导体供应链的重构将是一个渐进过程，从过去数十年效率优先的格局向安全与效率再平衡的方向演进。

注释及参考文献：

[1] 外国為替及び外国貿易法（昭和二十四年法律第二百二十八号）规定：「経済産業大臣は、輸出貿易管理令で定めるところにより、特定の最終需要者に該当する者を指定し、その者に対する特定の種類の貨物の輸出について、許可を受けなければならないものとすることができる。」译文为：第48条第1款：“经济产业大臣可根据出口贸易管理令的规定，指定属于特定最终用户的实体，对于向该实体出口特定种类的货物，可以规定必须获得许可。”（来源：日本电子政府法令数据库（e-Gov法令検索））

[2] 輸出貿易管理令（昭和二十四年政令第三百七十八号），来源：日本电子政府法令数据库（e-Gov法令検索）。

[3] 輸出貿易管理令の一部を改正する政令が閣議決定されました，来源：日本经济产业省

核心原文表述：

   「我が国は、国際平和及び安全の維持を目的として、外国為替及び外国貿易法に基づき、輸出貿易管理令の別表第一の項に掲げる貨物等の輸出について許可制度を実施している。今般、半導体製造装置に係る貨物について、同令の別表第一を改正し、23項目の貨物を追加する。」（译文：“我国以维护国际和平与安全为目的，依据《外汇及对外贸易法》，对出口贸易管理令附表第一所列货物等的出口实施许可制度。此次，针对半导体制造装置相关货物，对同令附表第一进行修改，追加23项货物。”）

管制范围说明（METI原文）：

  「今回の措置は、半導体製造装置（洗浄、成膜、露光、エッチングなど）に係る23項目の貨物及び関連技術を対象とする。これらの貨物は、高性能な半導体の製造に用いられるものであり、軍事転用のリスクが高いことから、輸出管理の強化が必要と判断された。」（译文：“本次措施以半导体制造装置（清洗、沉积、曝光、蚀刻等）相关的23项货物及关联技术为对象。这些货物用于制造高性能半导体，因军事转用风险较高，故判断有必要强化出口管理。”）

关于光刻胶的说明（METI官方解释）：

    在METI同日发布的「省令の解説」（省令解释文件）中，明确指出：

  「追加される23項目には、露光装置自体に加え、当該装置の性能を最大限に発揮させるために不可欠な関連材料及び部品が含まれる。具体的には、フォトレジストのうち、特定の波長（193nm以下）に対応し、かつ特定の解像度（14nm未満の線幅）を実現可能なものは、当該装置の『関連技術』として、本改正の適用対象となる。」（译文：“追加的23项中，除曝光装置本身外，还包括为充分发挥该装置性能所不可或缺的相关材料及零部件。具体而言，光刻胶中，对应特定波长（193nm以下）且可实现特定分辨率（线宽小于14nm）的产品，作为该装置的‘相关技术’，属于本改正的适用对象。”）

[4] 経済産業省：輸出貿易管理令の一部を改正する政令及び省令の公布について。

[5] 报道原文摘录：

  「経済産業省は、中国向けの先端半導体材料、特にArF液浸型フォトレジストやEUV用フォトレジストの輸出審査を2024年春以降、大幅に厳格化している。審査期間は従来の1〜2ヶ月から3〜6ヶ月に延長され、実質的に新規の輸出許可が停止された状態が続いている。」（译文：“经济产业省自2024年春季以来，大幅强化了对中国出口的先进半导体材料、尤其是ArF浸润式光刻胶及EUV用光刻胶的出口审查。审查期间从以往的1至2个月延长至3至6个月，实质上持续处于停止新出口许可的状态。”）

[6] https://www.mofcom.gov.cn/xwfb/xwfyrth/art/2025/art_a47727be67f04bdb8a614efe2a74ead2.html。

[7] https://finance.sina.com.cn/roll/2026-06-11/doc-inicyfhr9418926.shtml

[8] https://t.cj.sina.com.cn/articles/view/5646759686/15092b70601901ilew

[9] 日本野村综合研究所评估显示，日本用于电动汽车驱动电机钕磁体的镝、铽等重稀土几乎100%依赖中国供应

[10] 此处根据《商务部新闻发言人就对日相关出口管制措施答记者问》汇总，2026年6月29日发布，https://www.mofcom.gov.cn/syxwfb/art/2026/art_7f7ba1aa2b1a43a480e7f5c0e6f0e618.html

[11] 《商务部新闻发言人就对日相关出口管制措施答记者问年6月29日发布》，https://www.mofcom.gov.cn/syxwfb/art/2026/art_7f7ba1aa2b1a43a480e7f5c0e6f0e618.html

参考文献：

1. 《中华人民共和国出口管制法》（2020年10月17日第十三届全国人民代表大会常务委员会第二十二次会议通过，自2020年12月1日起施行）。

2. 《中华人民共和国两用物项出口管制条例》（2024年9月18日国务院第41次常务会议通过，自2024年12月1日起施行）。

3. 《商务部、海关总署关于对镓、锗相关物项实施出口管制的公告》（商务部、海关总署公告2023年第23号，已于2024年12月1日废止）。

4. 《商务部、海关总署公告2025年第57号——关于公布对部分中重稀土相关物项实施出口管制的决定》（商务部、海关总署公告2025年第57号，2025年11月7日至2026年11月10日暂停实施）。

5. 《商务部公告2025第61号——关于公布对境外相关稀土物项实施出口管制的决定》（商务部公告2025年第61号，2025年11月7日至2026年11月10日暂停实施）。

6. 《商务部公告2025第62号——关于公布对稀土相关技术实施出口管制的决定》（商务部公告2025年第62号，2025年11月7日至2026年11月10日暂停实施）。

7. 《商务部、海关总署公告2025年第57号——关于公布对部分中重稀土相关物项实施出口管制的决定》（商务部、海关总署公告2025年第57号，2025年11月7日至2026年11月10日暂停实施）。

8. 《商务部公告2026年第1号——关于加强两用物项对日本出口管制的公告》（商务部公告2026年第1号，自2026年1月6日起正式实施）。

9. 《商务部公告2026年第27号——关于公布将20家日本实体列入出口管制管控名单的公告》（商务部公告2026年第27号，自2026年6月29日起正式实施）。

10. 《商务部公告2026年第28号——关于公布将20家日本实体列入关注名单的公告》（商务部公告2026年第28号，自2026年6月29日起正式实施）。

11. 《商务部、海关总署公告2025年第91号——关于公布2026年度<两用物项和技术进出口许可证管理目录>的公告》（商务部、海关总署公告2025年第91号，自2026年1月1日起正式实施）。

12. 《外国為替及び外国貿易法》（昭和二十四年法律第二百二十八号），日本电子政府法令数据库（e-Gov法令検索）。

13. 《輸出貿易管理令》（昭和二十四年政令第三百七十八号）日本电子政府法令数据库（e-Gov法令検索）。

作者简介：

金耀，高级合伙人

德和衡&德衡管委会主任

金耀具有二十多年丰富的海关法律实务经验，办理过众多重大复杂海关稽查、行政处罚、走私犯罪案件，服务的部分客户包括：联想集团、华夏银行、嘉能可集团、麦格纳集团、帝人集团、SMC、张江集团、英特耐、国民油井华高、安森美、贝因美、中核集团、中交建和中科院（上海）等众多国内外大型企事业单位。

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杨莉，高级联席合伙人

毕业于复旦大学法学专业，美国亚利桑那大学（The University of Arizona）国际贸易和商事法（International Trade ＆ Business Law LLM）硕士，曾任某大型企业公司律师，具有十余年商事领域法律实务经验。自加入北京德和衡（上海）律师事务所以来，担任央国企及多家半导体等科技公司常年法律顾问，从事跨境投资、并购重组及商事争议等法律服务。

擅长领域：资本市场 | 跨境投资 | 商事争议

特色行业：半导体

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雷梓涵，北京德和衡（上海）律师事务所实习生，华东政法大学民商法专业法学硕士研究生，擅长公司法、证券法及破产法。